1.3 金属

半导体工艺中常见的金属杂质有铁、铜、铝、 铬 、钨 、钛 、钠 、钾 、锂等 ，这些杂质的来历主要有：各种器皿、管道 、化学试剂，以及半导体圆片加工过程中，在构成金属互连的一起，也产生了各种金属污染。这类杂质的去除常选用化学办法进行，经过各种试剂和化学药品制作的清洗液与 金属离子反应，构成金属离子的络合物，脱离圆片外表。

1.4 氧化物

半导体圆片暴露在含氧气及水的环境下表 面会构成天然氧化层。这层氧化薄膜不但会阻碍 半导体制作的许多工步，还包含了某些金属杂 。

PMT-2液体颗粒计数仪选用英国普洛帝核心技术创新式的第八代双激光窄光颗粒检测传感器，双精准流量操控-精细计量柱塞泵和超精细流量电磁操控系统，可以对清洗剂、半导体、超纯水、电子产品、平板玻璃、硅晶片等产品的在线或离线颗粒监测和剖析，现在是英国普洛帝剖析测验集团向水质范畴及微纳米检测范畴的重要产品。