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版块:机械制造   类型:普通   作者:化工产业技术分享   查看:73   回复:0   获赞:0   时间:2022-05-18 18:04:40

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失效剖析是关于电子元件失效原因进行确诊,在进行失效剖析的进程中,往往需求凭借仪器设备,以及化学类手法进行剖析,以承认失效形式,判别失效原因,研讨失效机理,提出改进预防措施。其办法能够分为有损剖析,无损剖析,物理剖析,化学剖析等。其间在进行微观描摹检测的时分,尤其是需求调查断面或许内部结构时,需求用到离子研磨仪+扫描电镜结合法,来进行失效剖析研讨。

离子研磨仪现在是遍及运用的制样东西,能够进行不同视点的剖面切削以及外表的抛光和清洁处理,以制备出合适半导体毛病剖析的 SEM 用样品。

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离子研磨1.jpg

离子研磨仪的基本原理

事例共享 1:晶片失效剖析思路和办法

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1. 优先判别失效的方位

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2. 确定失效剖析方位后,决议进行离子研磨仪进行切开


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3.离子研磨仪中进行切开


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4.切开后的样品,扩大调查

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5.扩大后发现毛病方位左右不对称

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6. 进一步扩大后,发现毛病方位揉捏变形,开裂,是形成失效的主要原因

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7. 变形开裂方位(扩大倍数:20,000x)

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8. 变形开裂方位(扩大倍数:40,000x)

事例共享 2:IC 封装测验失效剖析

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1. 对失效方位进行切开 2.离子研磨仪中进行切开

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3. 方位1. 扩大后发现此处未衔接。扩大倍数:30,000x

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4.方位2. 扩大后发现此处开裂。扩大倍数:50,000x

事例共享 3:PCB / PCBA 失效剖析

IMG_1070.JPG

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TECNOORG LINDA SC-2100

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· 适用于离子束剖面切削、外表抛光

· 可预设不同切削视点制备横截面样品

· 可用于样品抛光或终究阶段的细抛和清洁

· 超高能量离子枪用于快速抛光

· 低能量离子枪适用后处理的外表无损细抛和清洁

· 操作简略,嵌入式计算机体系,全自动设定操作

· 冷却体系标准化,应用于多品种样本

· 高分辨率五颜六色相机完成实时监控抛光进程


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