等离子体清洗机去除晶圆外表光刻胶

等离子体清洗机在处理晶圆外表光刻胶时，等离子外表清洗能够完全去除外表光刻胶和其他有机物，也能够经过等离子活化和粗化效果，对晶圆外表进行处理，能有用进步其外表浸润性。比较于传统的湿式化学办法，等离子体清洗机干式处理的可控性更强，一致性更好，而且对基体没有损伤。

等离子清洗机（Plasma Cleaner）又被称为等离子蚀刻机、等离子去胶机、等离子活化机、Plasma清洗机、等离子外表处理机、等离子清洗体系等。等离子处理机广泛使用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子晶圆去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子活化和等离子外表处理等场合，经过等离子清洗机的外表处理，能够改进资料外表的潮湿才能，使多种资料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，一起去除有机污染物、油污或油脂

等离子清洗机使用包含各式各样的刻蚀、灰化、和减压过程。其它的等离子工艺包含污染去除、外表粗糙化、添加潮湿性，以及进步焊接和粘接强度。

晶圆清洁 - 等离子清洗机用于在晶圆凸点工艺前去除污染，还能够去除有机污染、去除氟和其它卤素污染、去除金属和金属氧化。等离子也能够改进旋涂膜粘接和清洁金属焊盘。

晶圆刻蚀 - 等离子清洗机预处理晶圆的残留光刻胶和BCB，重新分配图形介电层，线条/光刻胶刻蚀，使用于晶圆资料的附着力增强，去除剩余的塑封资料/环氧树脂，增强金焊料凸点的附着力，晶圆减压削减破碎，进步旋涂膜附着力，清洁铝焊盘。